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2021-06-08
sheet resistance and resistivity
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行业常识
阅读量:186
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2021-06-08
方阻的测试原理
方阻的测试原理
方阻的测试原理
行业常识
阅读量:823
但四探针测试在原理上与图二所示用铜棒测方阻的方法不同因电流场中仅少部分电流在内端上两根探针点上产生电压电势,比值为1F(DS),F(DS)称为样品直径修正因子,与测试样品的直径D及四根探针之间的距离S有关,F(DS)值通过物理学理论计算得到,可直接从附表1查出(见产品操作手册)
但四探针测试在原理上与图二所示用铜棒测方阻的方法不同因电流场中仅少部分电...
但四探针测试在原理上与图二所示用铜棒测方阻的方法不同因电流场中仅少部分电...
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2021-06-08
正性光刻胶与负性光刻胶
正性光刻胶与负性光刻胶
正性光刻胶与负性光刻胶
行业常识
阅读量:431
光刻胶photoresist,亦称为光阻或光阻剂,是指通过紫外光深紫外光电子束离子束X射线等光照或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,是光刻工艺中的关键材料,主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工
光刻胶photoresist,亦称为光阻或光阻剂,是指通过紫外光深紫外光...
光刻胶photoresist,亦称为光阻或光阻剂,是指通过紫外光深紫外光...
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2021-06-08
方阻与电阻率、电导率的关系
方阻与电阻率、电导率的关系
方阻与电阻率、电导率的关系
行业常识
阅读量:2588
对于制定的膜层,和d可以认为是不变的定值,当L1=L2时,即为正方形的膜层,无论方块大小如何,其电阻均为定值R=d,这就是方块电阻的定义
对于制定的膜层,和d可以认为是不变的定值,当L1=L2时,即为正方形的膜...
对于制定的膜层,和d可以认为是不变的定值,当L1=L2时,即为正方形的膜...
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2021-06-08
什么是方块电阻
什么是方块电阻
什么是方块电阻
行业常识
阅读量:252
这种测试方法的优点是1用这种方法毫欧计可以测试到几百毫欧,几十毫欧,甚至更小的方阻值,2由于采用四端测试,铜棒和导电膜之间的接触电阻,铜棒到仪器的引线电阻,即使比被测电阻大也不会影响测试精度
这种测试方法的优点是1用这种方法毫欧计可以测试到几百毫欧,几十毫欧,甚至...
这种测试方法的优点是1用这种方法毫欧计可以测试到几百毫欧,几十毫欧,甚至...
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